SAS公司JMP事業(yè)部近日正式向全球發(fā)布了JMP® 統(tǒng)計發(fā)現(xiàn)軟件的最新版本JMP10。與以往的JMP版本相比,JMP10更加強大、直觀和快速,即使處理海量數(shù)據(jù)也游刃有余。此外,JMP 用戶還可以使用 JMP 的圖形生成器在 iPad® 上進行可視化數(shù)據(jù)分析。同樣由業(yè)務分析領域的領軍企業(yè) SAS 開發(fā)并于同期發(fā)布的JMP Pro(第 10 版),除具備JMP全部的功能和特性之外,還具有高級預測建模、模型比較和一鍵式 Bootstrapping 等功能。
JMP 10 的全新功能大幅提升了產(chǎn)品競爭力,使其適用范圍更廣,運行速度更快。SAS 執(zhí)行副總裁兼 SAS JMP 業(yè)務單位負責人 John Sall 表示,隨著軟件操作更加快速和簡便,您會挖掘出更多信息,進而加快決策制定的速度。
借助 JMP 10,組織能夠:
更高效地展示數(shù)據(jù):通過圖形生成器的拖放操作即能挖掘數(shù)據(jù)中隱藏的信息,幫助用戶輕松切換可視化分析手段(如圖形類型等)。
快速排序和過濾數(shù)據(jù):無需重復操作即可交換分析中的數(shù)據(jù)列;根據(jù)類別對數(shù)據(jù)進行本地過濾,而不會對開放式報表或表格造成影響。
執(zhí)行高級質量和可靠性分析:通過拖放變量,以交互方式構建流程控制圖,借助預測和增強模型改善可靠性分析;借助測量系統(tǒng)分析平臺更好地評估測量系統(tǒng)和量具的變異。
輕松擬合高級統(tǒng)計模型:擬合數(shù)據(jù)曲線,無需使用非線性模型的擴展程序庫預先歸因于公式或起始值。顯著改善了偏最小二乘 (PLS) 回歸功能,其中包括大量圖形和報表。
改進了試驗設計:借助全新的評估設計平臺對任何可作為設計的JMP 數(shù)據(jù)表進行評估,并結合其他全新的相關功能來改進試驗設計。
擴展 JMP 功能:借助應用程序生成器開發(fā)定制分析應用程序;使用插件生成器輕松定制和分發(fā)插件;通過全新的調試器和具有內(nèi)置日志功能的編輯器非常方便地完善腳本開發(fā)。
進行高級預測建模功能:JMP Pro(第 10 版)能夠通過交叉驗證執(zhí)行預測建模,進行精確測量變量關系,同時具有全新的一鍵式 Bootstrapping 功能和高級模型比較功能。
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