據(jù)日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)官網(wǎng)最新報(bào)告，該校設(shè)計(jì)了一種極紫外(EUV)光刻技術(shù)，超越了半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限。基于此設(shè)計(jì)的光刻設(shè)備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統(tǒng)EUV光刻機(jī)的十分之一，從而降低成本并大幅提高機(jī)器的可靠性和使用壽命。
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為什么大多數(shù)數(shù)據(jù)質(zhì)量計(jì)劃在開(kāi)始之前...
