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臺(tái)積電第二代3nm工藝首顆芯片流片
來源:物聯(lián)網(wǎng)頭條君  作者: 佚名 2022-10-28 08:31:16
Alphawave 公司表示,其已經(jīng)流片了業(yè)界首批使用臺(tái)積電 N3E 制造技術(shù)的芯片之一。該芯片已由臺(tái)積電生產(chǎn),并成功通過了所有必要的測試,將于本周晚些時(shí)候在臺(tái)積電的 OIP 論壇上展示。

近日,Alphawave公司宣布,其成為臺(tái)積電N3E工藝首批流片的客戶,相關(guān)產(chǎn)品會(huì)在本周臺(tái)積電OIP論壇上公布詳情。據(jù)悉,這是一款DSP PHY串行控制芯片,致力于服務(wù)下一代數(shù)據(jù)中心服務(wù)器。工藝本身方面,N3E實(shí)際上是臺(tái)積電的第二代3nm工藝,性能相比5nm提升18%,功耗降低34%,密度增加70%,大規(guī)模量產(chǎn)時(shí)間預(yù)計(jì)在明年二季度到三季度。

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編輯:張煜潔
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